処理案内

真空浸炭焼入れ

真空浸炭焼入れ

きれいな表面で、浸炭ムラのない安定した品質
高濃度浸炭や深浸炭が可能

処理概要

真空中でのプロパンガスを用いた浸炭処理で、プロセスはコンピューターによるシミュレーションと、パラメーターのコントロールシステムで処理品の正確な炭素濃度分布を再現するものです。

高濃度浸炭:マルテンサイト基地に1~2μmに粒状化した炭化物が分散した組織は高温軟化抵抗が高く著しく良好なピッチング特性を示す。

ICBP 200H-TG-TH

ICBP 200H-TG-TH

特 性

  • 粒界酸化がなく、強靭な浸炭層を生成させます
  • 高温迅速浸炭ができる(例1050℃)ため、深浸炭が容易にできます
  • ギヤ歯元まで均一に浸炭できるため、強度がアップされます
  • 高濃度浸炭(微細な炭化物を析出させる)が可能です
  • 強靭高強度で焼戻し抵抗の高い浸炭層の生成
  • 加圧ガス冷却、油冷却とも選択できます
  • 環境にやさしい処理プロセスです

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